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961.
单分散聚苯乙烯微球的制备及影响因素研究 总被引:13,自引:2,他引:11
以聚乙烯吡咯烷酮为分散剂,无水乙醇为反应介质,偶氮二异丁腈为引发剂,采用分散聚合工艺,通过优化反应条件,制备出了粒径为5μm单分散(分散系数≤5%)聚苯乙烯微球。所制备的聚苯乙烯微球标准偏差δ=0.16μm,分散系数ε=0.02,且具有良好的球形度,表面非常光滑,无破损,无缺损。对影响单分散聚苯乙烯微球的因素进行了研究,结果表明:随着分散稳定剂用量的增加,聚苯乙烯微球的粒径减小;随着单体和引发剂用量的增加,聚苯乙烯微球的粒径增大。分散稳定剂和单体用量是影响聚苯乙烯微球粒径分布的两个主要因素。 相似文献
962.
人nov基因全长cDNA克隆、测序及其组织表达谱分析 总被引:3,自引:0,他引:3
采用特异性mRNA富集技术,从人早期胚胎中得到人nov基因(novH)的cDNA克隆,序列分析表明,该基因cDNA序列由2389个碱基对组成,包含一段长1071bp的开放阅读框(ORF),3′端含有加尾信号AATAAA和ply(A)尾巴。Northern杂交显示,在Hela细胞和肾上腺组织中有表达的novHmRNA,大小约为2.5kb;多组织RNA点杂交分析结果进一步表明,novH基因在肾上腺和主动脉中的表达水平相对较高,在成人肾、肝、肺和小肠组织中亦有少量的表达。 相似文献
963.
利用KNSBN掺Cu晶体实现了自泵浦位相共轭;掺Cu量0.04wt%的晶体自泵浦位相共轭反射率高达65%;测量了自泵浦位相共轭反射率,响应时间和氩离子激光波长的关系。 相似文献
964.
小肠蔗糖酶的化学修饰及对酶活力的影响 总被引:3,自引:0,他引:3
考察了苯甲基磺酰氟、N-溴化琥珀酰亚胺、琥珀酸酐、三硝基苯磺酸对猪小肠蔗糖酶活性的影响。将猪小肠匀浆后的粗提取物进行分段盐析、DEAB-Sepharose柱层析及Sephacryl S-200、Sephadex G-200凝胶过滤等纯化步骤,得到聚丙烯酰胺凝胶电泳为单一蛋白质区带,比活力为1.79units/mg,经12%SDS-聚丙烯酰胺凝胶电泳为一条区带,其亚基相对分子质量为51000。该酶的功能基团是半胱氨酸的巯基,蔗糖酶分子内没有二硫键存在。 相似文献
965.
966.
蒋长锦 《数学物理学报(A辑)》2002,22(2):225-230
该文将Thomas Fermi近似问题分解为一个带奇点的常微分方程边值问题和一个最优化问题,讨论了解的存在唯一性和解的性质,给出了Thomas Fermi近似问题求解的具体步骤. 相似文献
967.
968.
报道了8-羟基喹啉铝和聚乙烯基咔唑薄膜及其混合体系膜的荧光衰减特性。聚乙烯基咔唑/8-羟基喹啉铝重量比100:4的混合膜在波长540nm和460nm处的荧光衰减时间分别为6.47ns和8.5ns。重量比100:10混合膜在波长540nm和460nm处的荧光衰减时间分别为5.5ns和7.9ns。上述两波长对应8-羟基喹啉铝和聚乙烯基咔唑分子荧光发射。混合体系的荧光寿命仅为8-羟基喹啉铝分子荧光的40%,同时也低于聚乙烯基咔唑14ns的荧光寿命。荧光寿命的减少反映出两种分子之间存在较强的相互作用或形成了分子复合体。 相似文献
969.
The Ta/Si multilayers on (100) Si substrate have been studied over the annealing temper-ature range from 500 to 900℃ by X-ray diffraction and cross-section transmission electron microscopy. The periodicity of the multilayers becomes worse with increasing annealing tem-perature and disappears at 750℃. At 600℃, two kinds of modulation wavelength coexist because the size of several TaSi2 grains is larger than the contracted original modulation wavelength. The films are contracted after annealing. The largest contraction, at least 40nm decreasing in thickness, occurs at 600℃. When the annealing temperature is lower than 600℃, h-TaSi2 grains grow randomly and the growth is not affected by the substrate. At temperatures higher than 750℃, h-TaSi2 grows preferentially in [001] direction parallel to [100] axis of Si substrate. The appearance of texture depends on whether the atomic diffusion is short range or long range at the corresponding annealing temperature. 相似文献
970.